今天漓源环保给大家讲解芯片生产线废水处理方法，在半导体制造技术中，通过一系列的光刻、刻蚀、沉积、离子注入、研磨、清洗等工艺形成具有各种功能的半导体芯片，然后将所述半导体芯片进行封装和电性测试，并终形成终端产品。目前，在半导体芯片的制造过程中，会产生大量的工业废水。

在现有的解芯片生产线废水处理过程中，通常单独使用序列间歇式活性污泥法(SBR)或生物接触氧化法或曝气生物滤池(BAF)，均只能对废水进行单一的处理，例如为过滤或微生物反应或去除毒性等，由于处理方式过于单一，这常常导致过滤物质很快堵塞的问题。因此，废水处理仍有改善的空间。

主要目的在于提供一种芯片生产线的废水处理方法，以解决现有技术存在的处理方式过于单一，这常常导致过滤物质很快堵塞的问题。

半导体芯片行业将生产废水处理系统分为：含氨废水处理系统、含氟废水处理系统、CMP研磨废水处理系统及酸碱废水处理系统。

含氨废水有两部分，一部分是浓氨氮废水，主要含氨氮和双氧水，氨氮浓度达400～1200mg/L;另一部分是稀氨废水，主要含氟化氨，氨氮浓度低于100mg/L。

含氟废水处理系统

工艺中采用CaCl溶液代替传统去氟采用的消石灰，可减少氟化钙污泥量、原料用量和碱液，同时，可避免粉态消石灰的逸散，防止管道堵塞，易于控制投加量，确保系统的稳定高效运行。

以上为漓源环保给大家简述的芯片生产线废水处理方法，更多的污水处理知识请咨询漓源环保。

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